- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
旋轉PECVD
本產品為等離子增強回轉化學氣相沉積系統(tǒng)（旋轉PECVD），爐管采用變徑設計，中部管徑較粗且有有混料隔板，能夠隨著爐管的旋轉將粉體或者顆粒反復混合，通過機械傳動控制工作管能360°不間斷旋轉，使得管內物料攪拌混合獲得均勻受熱效果；設備另配有等離子發(fā)生裝置，采用電感耦合與爐管連接，產生的等離子能夠滿布爐管，有效的提高反應物活化能，降低反應溫度，提高反應效率。設備配有三路質量流量計及混氣裝置，可用于向路管內通入多種氣體，同時設備配有高性能機械泵，能夠快速將爐管抽至真空；通過泵和氣路的配合可以實現(xiàn)多種CVD工藝。旋轉裝置十分適合在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。
技術參數(shù)
|
雙溫區(qū)管式爐 |
產品型號 |
CY-PECVD60R-1200-Q |
|
設備功率 |
3KW |
|
|
爐管材質 |
高純石英 |
|
|
爐管尺寸 |
Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm（石英異型管） |
|
|
爐膛長度 |
440mm |
|
|
加熱區(qū)長 |
200mm+200mm |
|
|
工作溫度 |
0～1150℃ |
|
|
極限溫度 |
1200℃ |
|
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
|
熱電偶類型 |
K型熱電偶 |
|
|
控溫模式 |
30段程序控溫，PID參數(shù)自整定 |
|
|
顯示模式 |
高清全彩LCD觸控屏 |
|
|
密封方式 |
304不銹鋼真空法蘭 |
|
|
供電電源 |
AC:220V 50/60Hz |
|
|
旋轉速度 |
0~13rpm |
|
|
傾斜角度 |
0~35° |
|
|
3路質量流量計 |
產品型號 |
CY-3Z |
|
氣路數(shù)量 |
3路 |
|
|
流量計類型 |
質量流量計 |
|
|
測量范圍 |
A路：0~100sccm; B路：0~200 sccm; C路：0~500 sccm |
|
|
測量精度 |
±1.5% |
|
|
工作壓差 |
0.1~0.5MPa |
|
|
管路接口 |
1/4英寸卡套接頭 |
|
|
供電 |
AC220V 50/60Hz |
|
|
真空系統(tǒng) |
真空泵 |
雙極旋片泵 |
|
抽速 |
1.1L/s |
|
|
抽氣接口 |
KF16 |
|
|
泵極限真空度 |
10E-1Pa |
|
|
供電 |
AC220V 50/60Hz |
|
|
射頻電源 |
信號頻率 |
13.56MHz±0.005% |
|
功率輸出范圍 |
0~500W |
|
|
*大反射功率 |
100W |
|
|
射頻輸出接口 |
50Ω，N-Type，female |
|
|
功率穩(wěn)定度 |
≤5W |
